平面刻划光栅
亿贝特光电-平面刻划光栅产品图
平面刻划光栅
衍射光栅可将复色光(白光)分离成各种组分(通过衍射效应)。各种光栅是由高精度的母光栅进行多次复制而成。光栅复制过程见如下描述。
高品质仪器级别的光栅可近乎满足所有的衍射需求,特别是在效率要求比较高的时候。可以根据尺寸,纹槽间距以及闪耀波长来选择光栅。理论分辨率与母光栅的每毫米槽纹数成比例,闪耀角和光栅间距决定了特种波长和光谱区域的最大效率。
衍射光栅尺可用在各种单色光的研究、教学、以及工业场合,几乎所有的商用分光光度计(紫外光、可见光、红外光、荧光、拉曼光、原子吸收等)都使用衍射光栅来选择特殊的波长或扫描整个波长区域。对于一个普通的光栅尺,通常在峰值效率时复制光栅。复制全息光栅时需要将杂散光调整到最小,且需要高分辨率的母尺。注意:光栅尺和全息光栅尺的损坏阈制在脉冲激光下为350mj/cm2,在连续激光模式下为40 Watts/cm2。
平面刻划光栅工作原理示意图
刻线式衍射光栅是在一个镀了铝膜的光学基板上刻有一系列密集的、间距线宽相等的平行直线,通常叫做“主尺”。采用高精密的干涉测量驱动器控制一个钻石刀来按照设定的间距和角度进行刻划,形成锯齿状的槽纹(通常称为闪耀角)。复制时首先在母版上真空沉积一层很薄的膜层,然后在分离层上镀一层铝膜,再在顶层镀上一层环氧层,复制刻槽表面,复制的光栅从主光栅上分离出来后,这个化合的过程便随着分离过程的结束而结束了。
相关参数:
刻线
20~1800Lines/mm
闪耀波长
250-10000nm
闪耀角
4.3°-52.7°
镀膜
铝
类型
反射衍射光栅
平面刻划光栅产品展示图:
平面刻划光栅产品展示图1
平面刻划光栅产品展示图2
平面刻划光栅产品展示图3